厦门韫茂超高真空镀膜设备

一、核心参数：

仪器种类：电子束蒸发镀膜机

产地类别：国产

应用领域：微电子学

基片尺寸：4寸（可定制）

靶材：AL

基片温度范围：RT-900ºC

成膜厚度均匀性：均一性<3%

真空：<1E-9Torr

二、约瑟夫森结超高压系统：

超高真空镀膜设备专业制备约瑟夫森结制备，可精确生长所需的金属层和氧化绝缘层，确保高性能制备及高成品率；此镀膜仪有进样室、氩离子清洗室、电子束蒸发室以及氧化室，共计四个高真空腔室，腔室间使用传样杆进行高真空传样，传递模组须采用抓取式设计；设备所有工艺均支持4英寸及以内的晶圆或不规则样品。设备整个工艺过程，可以按照用户设置的参数自动化运行，工艺流程包括并不限于：抽真空，监测气压，离子清洗，样品位置调节、传样，加热，电子束蒸发特定厚度设置，自动调整气压等。

超高真空镀膜设备

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