光刻技术基本参数

一、microArch S240---3D打印连接器介绍

 

microArch S240 10μm精度微纳3D打印系统由摩方精密自主研发的高精密微纳3D打印系统。设备采用面投影微立体光刻（PμSL: Projection Micro Stereolithography）技术，是目前行业极少能实现超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系统。PμSL技术使用高精度紫外光刻投影系统，将需打印模型分层投影至树脂液面，快速微立体成型，从数字模型直接加工三维复杂工业样件。该技术具有成型效率高、加工成本低等突出优势，被认为是目前非常具有前景的微尺度加工技术之一。

 

二、基本参数

 

光源：UV-LED(405nm)

 

打印材料：硬性树脂、耐高温树脂、韧性树脂、生物兼容性树脂等

 

光学精度：10μm

 

打印层厚：10-40μm

 

打印尺寸：

 

①模式一：19.2m(L)×10.8mm(W)×75mm(H)（单投影模式）

 

②模式二：100mm(L)×100mm(W)×75mm(H)（拼接模式）

 

③模式三：100mm(L)×100mm(W)×75mm(H)（重复阵列模式）

 

文件格式：STL

 

主机外形尺寸：650㎜(L)×700㎜(W)×790㎜(H)

 

重量：300kg

 

电气要求：200-240V AC,50/60HZ,2kW

 

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